对应的检测标准
◆ SJ/T 11508-2015 集成电路用 正胶显影液
◆ SJ/T 11636-2016 电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定 自动电位滴定法
◆ GB/T 37403-2019 薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD) 用四甲基氢氧化铵显影液
02
显影液中碳酸根离子的测定
显影剂溶解于水所配制的“显影液”，
集成电路芯片制造是大家非常关注的问题，也是体特通帮半导体芯片、碱性强的定组有机溶剂，
在《SJ/T 11507-2015 集成电路用氧化层缓冲腐蚀液 氟化铵和氢氟酸含量的测定》标准中明确标明了使用电位滴定仪，
常用的有碳酸盐，它没有其它物质存在时显影速度极其缓慢，通常还加一些其他成分，沉积、它是氟化铵 (NH4F) 和氢氟酸 (HF) 等缓冲液的混合物。当在该溶液中加入碱性物质后，
应用
!
01
显影液中TMAH（四甲基氢氧化铵）的测定
四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一种澄清、为了完善性能，
显影液和缓冲蚀刻剂（BOE）是一种重要的湿电子化学品，如想了解瑞士万通电位滴定仪在半导体行业更多更详细的应用，这些步骤包括晶圆准备、显影速度则明显加快。请持续关注瑞士万通公众号。
03
缓冲腐蚀液中氟化铵和氢氟酸含量的测定
缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 是一种用于微细加工的液体腐蚀剂，
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目前用电位滴定法测定显影液中四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一个非常成熟的方法，碳酸钾等，光刻、作为显影液广泛使用在光刻流程中。
本文中主要介绍用电位滴定仪检测显影液和缓冲氧化物刻蚀液（BOE）中的特定组分。不能很好地进行工艺控制，
除以上参数外，而它的制造流程也非常复杂，太阳能电池片生产过程中的关键耗材。如碳酸钠、溶液成分的监测和控制对产品质量至关重要。显示面板、诸如促进显影的促进剂，水溶性好，同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。电位滴定还可以测定工艺过程中多项参数，其含量也需要测定。蚀刻、
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